ホーム > 岩室 憲幸/ Iwamuro, Noriyuki
岩室 憲幸
Iwamuro, Noriyuki
数理物質系 , 教授 Institute of Pure and Applied Sciences , Professor
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日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞
2020-12-10
岩室 憲幸
オープンアクセス版の論文は「つくばリポジトリ」で読むことができます。
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1.
電気ー熱ー応力連成シミュレーション技術を用いたSiC MOSFET負荷短絡破壊メカニズム解析法
Yao, Kairun; 岩室, 憲幸
IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems 144: 204 (2024) Semantic Scholar
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2.
1.2-kV SiC MOSFET負荷短絡耐量の温度依存性解析
鈴木一広; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 34 (2024)
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3.
SiC-MOSFET 内蔵PiNダイオードの特性解析
菊池真矢; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 32 (2024)
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4.
4H-SiC横型p-ch SJ-MOSFETのゲート-ドレイン間寄生容量特性解析
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 37 (2024)
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5.
ACゲートストレスによるSiC MOSFETのしきい値電圧とサブスレッショルドスイングの変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 105 (2023)
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6.
4H SiC横型p-ch SJ-MOSFETのオン抵抗と寄生容量の関係評価
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 101 (2023)
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7.
SiCトレンチMOSFETへの電子線照射効果
松木康太郎; 辻崇; 小野澤勇一; 岩室憲幸矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 103 (2023)
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8.
Threshold voltage drift mechanism in SiC MOSFETs under AC gate stress
Enjoji, Yuya; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
Abstract of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2023 (ICSCRM 2023) Mo.C.11 (2023)
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9.
Trap distribution in 4H-SiC MOSFETs analyzed by a 3-level charge pumping technique
Akiba, Atsuhiro; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
Abstract of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2023 (ICSCRM 2023) C.1 (2023)
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10.
Investigations of Residual Damage in SiC Trench MOSFETs after Single and Multiple Short-Circuit Stress
髙橋光希; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
Proceedings of the 35st International Symposium on Power Semiconductor Devices & ICs 250 (2023)
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11.
An investigation of avalanche ruggedness and failure mechanisms of 4H SiC trench MOSFETs in unclamped inductive switching by varying load inductances over a wide range
Tsuji, Takashi; Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: (2023) Semantic Scholar
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12.
Comparative study on short-circuit and surge current capabilities of 1.2 kV SiC SBD-embedded MOSFETs
柏佳介; 髙橋光希; 北村雄大; 矢野裕司Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: SC2073-1 (2023) Semantic Scholar
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13.
モノリシック相補型インバータに向けた4H-SiC横型p-ch SJ-MOSFETの構造設計
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第9回講演会 予稿集 91 (2022)
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14.
Study on enhancing of the surge current capabilities of embedded SBDs in SWITCH-MOSs and body-PiN-diodes in SiC trench MOSFETs
北村雄大; 加藤史樹; 田中聡; 俵 武志 (+3 著者) Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: SC1007-1 (2022) Semantic Scholar
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15.
バイポーラACゲートストレス印加によるSiC-MOSFETのしきい値電圧変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第9回講演会 予稿集 75 (2022)
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16.
Significant Improvement of Switching Characteristics in a 1.2-kV SiC SWITCH-MOS by the Application of Kelvin Source Connection
松井ケビン; 俵 武志; 原田, 信介; 田中聡 (+2 著者) Iwamuro, Noriyuki
IEEJ TRANSACTIONS ON ELECTRICAL AND ELECTRONIC ENGINEERING 18: 278 (2022) Semantic Scholar
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17.
AC ゲートストレス印加による SiC-MOSFET のしきい値電圧変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
第83回応用物理学会秋季学術講演会 予稿集 12-122 (2022)
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18.
Experimental Demonstration of the Surge Current Capability of Embedded SBDs in 1.2-kV SiC SBD-integrated Trench MOSFETs with Ti and Ni as Schottky Metals
北村雄大; 俵 武志; 原田, 信介; 矢野裕司Iwamuro, Noriyuki
Extended Abstracts of 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 701 (2022)
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19.
Experimental and Numerical Investigations of the Electrical Characteristics of SiC SBD-Integrated MOSFETs by Varying the Area Occupied by Embedded SBDs
柏佳介; 髙橋光希; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
Extended Abstracts of 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 703 (2022)
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20.
電気熱連成解析によるモータ駆動時の SiC MOSFET の温度推定
松岡亨卓; 磯部, 高範; 加藤史樹; 先崎純寿 (+1 著者) 岩室憲幸
2022年電気学会産業応用部門大会 (2022)
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21.
パワーデバイスイネーブリング協会PDEA 巻頭言
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:体系的パワエレ研究と教育の重要性(巻頭言))
2019年2月
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22.
AEI Asia Electronic Industry
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:Innovations Find Optimal Materials, Structure for Power Device)
電波新聞社 2018年11月
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23.
Wide Bandgap Semiconductor Power Devices
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:SiC power device design and fabrication)
ELSEVIER, WOODHEAD PUBLISHING 2018年10月 (ISBN: 9780081023068)
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24.
ASIA ELECTRONICS INDUSTRY
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:Low-cost SiC-MOSFETs poise for global adoption)
電波新聞社 2018年9月
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25.
シリコンパワーデバイス・パワーICの更なる進化および新材料パワーデバイスの進展
岩室, 憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:シリコンパワーデバイス・パワーICの更なる進化および新材料パワーデバイスの進展)
電気学会 2018年4月
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26.
車載テクノロジー
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiCパワーデバイスの開発と車載用途への要望)
株式会社技術情報協会 2018年2月
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27.
SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント
岩室, 憲幸
(担当:監修, 範囲:SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント)
S&T出版 2018年1月 (ISBN: 9784907002688)
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28.
電気総合誌「オーム OHM」1月号
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:新材料の実用化が進むパワー半導体 パワー半導体の基礎)
株式会社オーム社 2018年1月
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29.
クリーンテクノロジー
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:パワーデバイスの最新技術とその応用)
日本工業出版 2017年12月
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30.
ASIA ELECTRONICS INDUSTRY
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:Power Semiconductors Shape up for Future Vehicles)
電波新聞社 2017年6月
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31.
ASIA ELECTRONICS INDUSTRY
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:Power Semiconductors Shape up for Future Vehicles)
電波新聞社 2017年6月
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32.
Compound Semiconductor
An, Junjie; Namai, Masaki; Tanabe, Mikiko; Okamoto, Dai; Yano, Hiroshi; Iwamuro, Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:Making a debut: the p-type SiC MOSFET)
Angel Business Communications publication 2017年6月
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33.
パワーデバイス・イネーブリング協会 会報誌
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:パワーデバイス基礎講座(全8回))
2016年6月
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34.
SEAJ Journal
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:次世代パワーエレクトロニクスを支えるSiCパワー半導体デバイスならびにその実装技術)
2016年1月
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35.
次世代パワー半導体の高性能化とその産業展開
岩室,憲幸
(担当:監修, 範囲:第26章 パワー半導体市場ならびに企業動向)
シーエムシー出版 2015年6月
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36.
次世代パワー半導体の高性能化とその産業展開
岩室,憲幸
(担当:監修, 範囲:第26章 パワー半導体市場ならびに企業動向)
シーエムシー出版 2015年6月
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37.
次世代パワー半導体の高性能化とその産業展開
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:第26章 パワー半導体市場ならびに企業動向)
シーエムシー出版 2015年6月
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38.
エネルギーデバイス
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:SiCパワーモジュールとGaNパワーモジュールの技術動向)
2015年2月
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39.
2015 パワーデバイス技術大全
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:IGBTの現状と最新動向)
株式会社 電子ジャーナル 2014年7月
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40.
2015 パワーデバイス技術大全
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:パワーデバイスの設計・製造技術)
株式会社 電子ジャーナル 2014年7月
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1.
Experimental Demonstration of the Surge Current Capability of Embedded SBDs in 1.2-kV SiC SBD-integrated Trench MOSFETs with Ti and Ni as Schottky Metals
北村雄大; 俵 武志; 原田, 信介; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月26日 応用物理学会
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2.
Experimental and Numerical Investigations of the Electrical Characteristics of SiC SBD-Integrated MOSFETs by Varying the Area Occupied by Embedded SBDs
柏佳介; 髙橋光希; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月26日 応用物理学会
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3.
Demonstration of the Surge Current Capability of Embedded SBDs in SiC SBD-Integrated Trench MOSFETs with a Thick Cu Block
北村雄大; 加藤史樹; 田中聡; 俵 武志; 信介, 原田; 佐藤弘; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
The 34th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD2022) 2022年5月22日
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4.
Investigation of the Short-Circuit Failure Mechanisms in 1.2-kV SiC Trench MOSFETs with Thin N+ Substrates using Electro-Thermal-Mechanical Analysis
Kashiwa, Keisuke; Yao, Kailun; Yano, Hiroshi; 岩室憲幸; Harada, Shinsuke
The 34th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD2022) 2022年5月22日
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5.
Enhanced Short-circuit Capability for 1.2 kV SiC SBD-integrated Trench MOSFETs Using Cu Blocks Sintered on the Source Pad
凱倫, 姚; 加藤史樹; 田中聡; 信介, 原田; 佐藤弘; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
The 34th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD2022) 2022年5月22日
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6.
4H-SiCショットキーpnダイオードの導電機構解析
森海斗; 亀和田亮; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月22日 応用物理学会
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7.
Characterization of Interface Traps Near Valence Band by Split C-V measurement
Cui, Xiaoran; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月22日
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8.
TCADシミュレーションを用いた1.2kV SBD内蔵 SiC MOSFETの電気特性解析
髙橋光希; 柏佳介; 松井ケビン; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和4年電気学会全国大会 2022年3月21日 電気学会
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9.
4H-SiCショットキーpnダイオードの最適設計検討と動作解析
森海斗; 亀和田亮; 岩室, 憲幸; 矢野裕司
応用物理学会先進パワー半導体分科会 第8回講演会 2021年12月9日 応用物理学会
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10.
モノリシック相補型電力変換器に向けた4H-SiC RESURF p-MOSFETの最適設計の検討
西城智哉; 岩室, 憲幸; 矢野裕司
応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第8回講演会 2021年12月9日 応用物理学会
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11.
改良高速On-the-fly法によるSiC MOSFETのNBTI評価
坂田大輝; 岡本大; 染谷満; 平井悠久; 岡本光央; 原田, 信介; 畠山哲夫; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第8回講演会 2021年12月9日 応用物理学会 招待有り
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12.
パワーデバイスの最新動向
岩室, 憲幸
Advanced Metallization Conference 2021, Asia Session (ADMETA plus 2021), 30回記念講演 2021年10月13日 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 招待有り
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13.
Siパワー半導体の最新技術ど技術課題
岩室, 憲幸
公)精密工学会 プラナリゼーション CMP とその応用技術専門委員会,第193回研究会 2021年10月8日 公)精密工学会 招待有り
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14.
Investigations of UIS Failure Mechanism in 1.2 kV Trench SiC MOSFETs Using Electro-Thermal-Mechanical Stress Analysis
姚 凱倫; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
The 33rd International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD2021) 2021年5月30日 IEEE, IEEJ
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15.
Comprehensive Study on Electrical Characteristics in 1.2 kV SiC SBD-integrated Trench and Planar MOSFETs
松井ケビン; 饗場 塁士; 馬場正和; 原田信介; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
The 33rd International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD2021) 2021年5月30日 電気学会
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16.
Experimental and Numerical Demonstration of Superior RBSOAs in 1.2 kV SiC Trench and SBD-integrated Trench MOSFETs
戸高駿希; 松井ケビン; 饗場 塁士; 馬場正和; 原田信介; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
The 33rd International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD2021) 2021年5月30日 電気学会
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17.
4H-SiCショットキーPNダイオードのスイッチング特性解析
亀和田, 亮; 児島一聡; 岩室, 憲幸; 矢野裕司
第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月16日 応用物理学会
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18.
4H-SiCショットキーpnダイオードの高耐圧化
北村, 雄大; 亀和田, 亮; 児島一聡; 岩室, 憲幸; 矢野裕司
第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月16日 応用物理学会
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19.
4H-SiC ショットキー PN ダイオードのスイッチング特性解析
亀和田, 亮; 児島一聡; 岩室, 憲幸; 矢野裕司
第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月16日 応用物理学会
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20.
4H-SiC ショットキーpn ダイオードの高耐圧化
北村, 雄大; 亀和田, 亮; 児島一聡; 岩室, 憲幸; 矢野裕司
第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月16日 応用物理学会
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1. : 炭化珪素半導体装置及び炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
2. : 炭化珪素半導体装置
岩室,憲幸 -
3. : 炭化珪素半導体装置
辻 崇; 木下 明将; 岩室, 憲幸; 福田 憲司 -
4. : 炭化ケイ素縦型MOSFETおよびその製造方法
岩室,憲幸 -
5. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
6. : 炭化珪素半導体装置
岩室,憲幸 -
7. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
8. : Silicon carbide devices and fabrication method
Iwamuro,Noriyuki -
9. : 半導体装置および半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
10. : Vertical high voltage semicouductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor apparatus
Iwamuro, Noriyuki; 原田 信介; 星 保幸; 原田 祐一 -
11. : High Voltage Semiconductor Devices
Iwamuro, Noriyuki; 信介, 原田 -
12. : Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
Iwamuro,Noriyuki -
13. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
14. : 炭化ケイ素縦型MOSFET及びその製造方法
岩室, 憲幸; 原田信介; 星保幸; 原田祐一 -
15. : Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
Iwamuro,Noriyuki -
16. : Vertical high voltage semiconductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor appatus
岩室,憲幸 -
17. : •Low on-resistance wide band gap semiconductor device and method for producing the same
岩室,憲幸 -
18. : •炭化珪素縦型電界効果トランジスタ
岩室,憲幸 -
19. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
20. : •ワイドバンドギャップ半導体装置
岩室,憲幸 -
21. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
22. : •ワイドバンドギャップ半導体装置
岩室,憲幸 -
23. : •縦型高耐圧半導体装置およびその製造方法
岩室,憲幸 -
24. : •逆耐圧を有する縦型窒化ガリウム半導体装置
岩室,憲幸 -
25. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
26. : •Vertical high voltage semiconductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor apparatus
岩室,憲幸 -
27. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
28. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
29. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
30. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
31. : •Fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
32. : •Silicon carbide vertical field effect transistor
岩室,憲幸 -
33. : •電力変換装置
岩室,憲幸 -
34. : •電力変換装置
岩室,憲幸 -
35. : •縦型高耐圧装置の製造方法および縦型高耐圧半導体装置
岩室,憲幸 -
36. : •炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
37. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
38. : •縦型高耐圧装置および縦型高耐圧半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
39. : •High voltage semiconductor device and manufacturing method thereof
岩室,憲幸 -
40. : •Wide band gap semiconductor device and method for producing the same
岩室,憲幸 -
41. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
42. : •Vertical high-voltage semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
43. : •High voltage semiconductor apparatus
岩室,憲幸 -
44. : •Wide band gap semiconductor device
岩室,憲幸 -
45. : •炭化珪素半導体装置およびその製造方法
岩室,憲幸 -
46. : •炭化珪素半導体素子の製造方法
岩室,憲幸 -
47. : •Semiconductor Device With SiC Base Layer
岩室, 憲幸 -
48. : •Semiconductor Device
岩室,憲幸 -
49. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
50. 特願2018-208105: 炭化珪素半導体装置
岩室, 憲幸; 原田, 信介 -
51. 2012-104224: 炭化珪素半導体素子の製造方法
福田憲司; 岩室, 憲幸; 後藤雅秀 -
52. 2012-125254: 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
辻崇; 木下明将; 岩室, 憲幸; 福田憲司 -
53. 2017-101263: 炭化珪素半導体装置
辻崇; 木下明将; 岩室, 憲幸; 福田憲司 -
54. 2016-131076: 半導体装置および半導体装置の製造方法
福田憲司; 岩室, 憲幸 -
55. 2012-081171: 半導体装置
原田祐一; 岩室, 憲幸; 星保幸; 原田信介 -
56. 2015-530769: 高耐圧半導体装置およびその製造方法
岩室, 憲幸; 原田信介 -
57. 特願2015‐030433: •前駆体溶液及びシリコンを含有する層、ならびにパワー半導体素子及びパワー半導体素子の製造方法
下田達也; 増田貴史; 村上達也; 岩室, 憲幸; 矢野裕司 -
58. 特願2014-257935: 電力変換装置
磯部高範; 岩室憲幸; 只野博; 矢野 裕司 -
59. 特願2014-257934: 電力変換装置
磯部高範; 岩室憲幸; 只野博; 矢野 裕司 -
60. 特願2015-030433: 前駆体溶液及び炭化シリコンを含有する層、並びに、パワー半導体素子及びパワー半導体素子の製造方法
下田達也; 井上,聡; 増田,貴史; 村上,達也; 岩室,憲幸; 矢野,裕司
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