ホーム > 岩室 憲幸/ Iwamuro, Noriyuki
岩室 憲幸
Iwamuro, Noriyuki
数理物質系 , 教授 Institute of Pure and Applied Sciences , Professor
-
日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞
2020-12-10
岩室 憲幸
オープンアクセス版の論文は「つくばリポジトリ」で読むことができます。
-
1.
電気ー熱ー応力連成シミュレーション技術を用いたSiC MOSFET負荷短絡破壊メカニズム解析法
Yao, Kairun; 岩室, 憲幸
IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems 144: 204 (2024) Semantic Scholar
-
2.
1.2-kV SiC MOSFET負荷短絡耐量の温度依存性解析
鈴木一広; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 34 (2024)
-
3.
SiC-MOSFET 内蔵PiNダイオードの特性解析
菊池真矢; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 32 (2024)
-
4.
4H-SiC横型p-ch SJ-MOSFETのゲート-ドレイン間寄生容量特性解析
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 37 (2024)
-
5.
ACゲートストレスによるSiC MOSFETのしきい値電圧とサブスレッショルドスイングの変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 105 (2023)
-
6.
4H SiC横型p-ch SJ-MOSFETのオン抵抗と寄生容量の関係評価
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 101 (2023)
-
7.
SiCトレンチMOSFETへの電子線照射効果
松木康太郎; 辻崇; 小野澤勇一; 岩室憲幸矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 103 (2023)
-
8.
Threshold voltage drift mechanism in SiC MOSFETs under AC gate stress
Enjoji, Yuya; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
Abstract of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2023 (ICSCRM 2023) Mo.C.11 (2023)
-
9.
Trap distribution in 4H-SiC MOSFETs analyzed by a 3-level charge pumping technique
Akiba, Atsuhiro; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
Abstract of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2023 (ICSCRM 2023) C.1 (2023)
-
10.
Investigations of Residual Damage in SiC Trench MOSFETs after Single and Multiple Short-Circuit Stress
髙橋光希; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
Proceedings of the 35st International Symposium on Power Semiconductor Devices & ICs 250 (2023)
-
11.
An investigation of avalanche ruggedness and failure mechanisms of 4H SiC trench MOSFETs in unclamped inductive switching by varying load inductances over a wide range
Tsuji, Takashi; Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: (2023) Semantic Scholar
-
12.
Comparative study on short-circuit and surge current capabilities of 1.2 kV SiC SBD-embedded MOSFETs
柏佳介; 髙橋光希; 北村雄大; 矢野裕司Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: SC2073-1 (2023) Semantic Scholar
-
13.
モノリシック相補型インバータに向けた4H-SiC横型p-ch SJ-MOSFETの構造設計
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第9回講演会 予稿集 91 (2022)
-
14.
Study on enhancing of the surge current capabilities of embedded SBDs in SWITCH-MOSs and body-PiN-diodes in SiC trench MOSFETs
北村雄大; 加藤史樹; 田中聡; 俵 武志 (+3 著者) Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: SC1007-1 (2022) Semantic Scholar
-
15.
バイポーラACゲートストレス印加によるSiC-MOSFETのしきい値電圧変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第9回講演会 予稿集 75 (2022)
-
16.
Significant Improvement of Switching Characteristics in a 1.2-kV SiC SWITCH-MOS by the Application of Kelvin Source Connection
松井ケビン; 俵 武志; 原田, 信介; 田中聡 (+2 著者) Iwamuro, Noriyuki
IEEJ TRANSACTIONS ON ELECTRICAL AND ELECTRONIC ENGINEERING 18: 278 (2022) Semantic Scholar
-
17.
AC ゲートストレス印加による SiC-MOSFET のしきい値電圧変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
第83回応用物理学会秋季学術講演会 予稿集 12-122 (2022)
-
18.
Experimental Demonstration of the Surge Current Capability of Embedded SBDs in 1.2-kV SiC SBD-integrated Trench MOSFETs with Ti and Ni as Schottky Metals
北村雄大; 俵 武志; 原田, 信介; 矢野裕司Iwamuro, Noriyuki
Extended Abstracts of 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 701 (2022)
-
19.
Experimental and Numerical Investigations of the Electrical Characteristics of SiC SBD-Integrated MOSFETs by Varying the Area Occupied by Embedded SBDs
柏佳介; 髙橋光希; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
Extended Abstracts of 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 703 (2022)
-
20.
電気熱連成解析によるモータ駆動時の SiC MOSFET の温度推定
松岡亨卓; 磯部, 高範; 加藤史樹; 先崎純寿 (+1 著者) 岩室憲幸
2022年電気学会産業応用部門大会 (2022)
-
1.
パワエレ技術者のためのSiCパワー半導体デバイス ~高信頼性を実現する素子と実装技術~
岩室, 憲幸
科学情報出版 2024年2月 (ISBN: 9784910558264)
-
2.
Asia Electronics Industry
Iwamuro, Noriyuki
電波新聞社 2023年9月
-
3.
工業材料
岩室, 憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:MOSFETとIGBTを中心としたパワー半導体デバイスの最新動向と課題)
日刊工業新聞社 2023年8月
-
4.
月刊車載テクノロジー
岩室, 憲幸
技術情報協会 2023年6月
-
5.
表面技術
岩室, 憲幸
一般社団法人 表面技術協会 2023年6月
-
6.
Springer Handbook of Semiconductor Devices
Iwamuro, Noriyuki
Springer Nature 2022年11月 (ISBN: 9783030798260)
-
7.
次世代パワー半導体の開発・評価と実用化
岩室, 憲幸
㈱エヌ・ティー・エス 2022年2月 (ISBN: 9784860437671)
-
8.
ASIA Electronics Industry
Iwamuro, Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:Power ICs Shape Up to Meet Emerging Automobile Trends)
電波新聞社 2021年12月
-
9.
次世代パワー半導体の開発動向と応用展開
岩室, 憲幸
㈱シーエムシー出版 2021年8月 (ISBN: 9784781316130)
-
10.
電気評論
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:パワーエレクトロニクスの現状と将来)
2020年12月
-
11.
AEI 亜州電子信息
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:在 5G 商用化和 EV 普及上关注度不断 增加的功率半导体)
2020年8月
-
12.
電気学会技術報告書
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiC デバイス ユニポーラデバイス)
電気学会 2020年7月
-
13.
電気計算
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:注目される次世代パワーデバイスSiC・GaN)
株式会社 電気書院 2020年4月
-
14.
Power Device Enabling Association report
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:GaNパワーデバイスの基礎)
一般社団法人 パワーデバイスイネーブリング協会 2020年2月
-
15.
月間マテリアルステージ
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiC/GaNパワーデバイスの技術トレンドと求められる放熱・耐熱特性)
株式会社 技術情報協会 2020年1月
-
16.
車載機器におけるパワー半導体の設計と実装
岩室, 憲幸
科学情報出版株式会社 2019年9月 (ISBN: 9784904774786)
-
17.
高熱伝導材料の開発~さらなる熱伝導率の向上のために~
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiCパワーデバイスの最新動向と信頼性の課題)
(株)技術情報協会 2019年7月 (ISBN: 9784861047541)
-
18.
サーマルマネジメント材料技術
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:次世代パワー半導体デバイスとサーマルマネジメント材料技術)
サイエンス&テクノロジー株式会社 2019年7月 (ISBN: 9784864281966)
-
19.
IV. パワー半導体デバイスの現状
岩室,憲幸
日本粉体工業技術協会 2019年6月
-
20.
サーマルデバイス ~新素材・新技術による熱の高度制御と高効率利用~
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:サーマルマネジメント―パワー半導体デバイス技術と課題)
(株)エヌ・ティー・エス 2019年4月 (ISBN: 9784860436025)
-
21.
高ショットキー障壁金属を適用した1.2 kV SBD内蔵SiCトレンチMOSFETのスイッチング特性評価
松井ケビン; 饗場 塁士; 柏, 佳介; 馬場正和; 原田信介; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和3年電気学会全国大会 2021年3月9日 電気学会
-
22.
熱応力シミュレーションを用いた1.2 kV SBD内蔵 SiC トレンチMOSFET(SWITCH-MOS)の負荷短絡耐量解析
柏, 佳介; 松井ケビン; 饗場 塁士; 馬場正和; 原田信介; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和3年電気学会全国大会 2021年3月9日 電気学会
-
23.
改良高速On-the-fly法によるSiC MOSFETの正確なNBTI評価
坂田, 大輝; 岡本大; 染谷満; 平井悠久; 岡本光央; 原田信介; 畠山哲夫; 矢野, 裕司; 岩室憲幸
先進パワー半導体分科会 第7回講演会 2020年12月9日
-
24.
4H-SiC MOSFETの酸化膜リーク電流伝導機構の解析
根本 宏樹; 岡本大; 張旭芳; 染谷満; 岡本光央; 畠山哲夫; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第7回講演会 2020年12月9日
-
25.
4H-SiC MOSFETの酸化膜リーク電流伝導機構の解析
根本 宏樹; 岡本大; 張旭芳; 染谷満; 岡本光央; 畠山哲夫; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第7回講演会 2020年12月9日
-
26.
Experimental Demonstration of Superior Vf-Err Characteristics of pin Body Diode in 1.2 kV IE-UMOSFET with a Very Short Channel Length
金森大河; 饗場 塁士; 原田信介; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
PCIM asia 2020 2020年11月16日
-
27.
Recent progress of power semiconductor devices and expectation for GaN power devices (Invited)
Iwamuro, Noriyuki
39th Electronic Materials Symposium 2020年10月7日 招待有り
-
28.
Influence of Interface Traps on the Shape of Split C-V Curves of 4H-SiC MOSFETs at Inversion
Cui, Xiaoran; Iwamuro, Noriyuki; 矢野裕司
2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2020) 2020年9月27日 応用物理学会
-
29.
Analysis of 1.2 kV SiC SWITCH-MOS after Short-circuit Stress
大川 雅貴; 金森大河; 饗場 塁士; 原田信介; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
The 32nd International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD2020) 2020年9月13日 IEEE
-
30.
Investigation of dVDS/dt Controllability on Rg in SWITCH-MOS to Achieve Superior Turn-on Characteristics with Low dVDS/dt
饗場 塁士; 松井ケビン; 大川 雅貴; 金森 大河; 原田信介; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
The 32nd International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD2020) 2020年9月13日 IEEE
-
31.
On-the-flyチャージポンピング法によるSiC MOSFET負バイアスストレス時の界面トラップ生成解析
岡本大; 染谷満; 坂田大輝; 張旭芳; 松谷優汰; 畠山哲夫; 岡本光央; 原田信介; 矢野, 裕司; 岩室憲幸
第67回応用物理学会春季学術講演会 2020年3月12日
-
32.
Influence of Interface Traps on Split C-V Characteristics of 4H-SiC MOSFETs
Gyozen, Sai; Dai, Okamoto; Noriyuki, Iwamuro; 矢野, 裕司
第67回応用物理学会春季学術講演会 2020年3月12日
-
33.
SiCトレンチMOSFET内蔵pin ダイオードにおける逆回復特性の負ゲートバイアス依存性
金森 大河; 饗場 塁士; 大川 雅貴; 原田 信介; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和2年電気学会全国大会 2020年3月11日 電気学会
-
34.
SiC p+/p-/n+ダイオードにおける逆回復特性の順方向動作依存性の解析
亀和田亮; 饗場 塁士; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和2年電気学会全国大会 2020年3月11日 電気学会
-
35.
SiC トレンチ MOSFET 内蔵pin ダイオードに おける逆回復特性の負ゲートバイアス依存性
金森 大河; 饗場 塁士; 大川 雅貴; 原田 信介; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和2年電気学会全国大会 2020年3月11日 電気学会
-
36.
1.2 kV SiCトレンチMOSFETのRBSOA解析
戸高 駿希; 松井 ケビン; 饗場 塁士; 大川 雅貴; 金森 大河; 原田 信介; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和2年電気学会全国大会 2020年3月11日 電気学会
-
37.
1.2 kV SBD内蔵SiCトレンチMOSFET(SWITCH-MOS)のターンオフ耐量解析
松井 ケビン; 戸高 駿希; 饗場 塁士; 大川 雅貴; 金森 大河; 原田 信介; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和2年電気学会全国大会 2020年3月11日 電気学会
-
38.
SiC pチャネルMOSFETの正孔輸送機構の解析
岡本大; 周星炎; 張旭芳; 染谷満; 岡本光央; 畠山哲夫; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理- 第25回研究会 2020年1月31日
-
39.
高速緩和なし法によるpチャネル4H-SiC MOSFETのしきい値電圧変動評価
坂田, 大輝; 岡本大; 染谷満; 岡本光央; 原田信介; 畠山哲夫; 根本宏樹; 張旭芳; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第6回講演会 2019年12月3日
-
40.
pチャネル4H-SiC MOSFETのチャネルドリフト移動度の導出と散乱機構の解明
周星炎; 岡本大; 張旭芳; 染谷満; 岡本光央; 畠山哲夫; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第6回講演会 2019年12月3日
-
1. : 炭化珪素半導体装置及び炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
2. : 炭化珪素半導体装置
岩室,憲幸 -
3. : 炭化珪素半導体装置
辻 崇; 木下 明将; 岩室, 憲幸; 福田 憲司 -
4. : 炭化ケイ素縦型MOSFETおよびその製造方法
岩室,憲幸 -
5. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
6. : 炭化珪素半導体装置
岩室,憲幸 -
7. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
8. : Silicon carbide devices and fabrication method
Iwamuro,Noriyuki -
9. : 半導体装置および半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
10. : Vertical high voltage semicouductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor apparatus
Iwamuro, Noriyuki; 原田 信介; 星 保幸; 原田 祐一 -
11. : High Voltage Semiconductor Devices
Iwamuro, Noriyuki; 信介, 原田 -
12. : Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
Iwamuro,Noriyuki -
13. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
14. : 炭化ケイ素縦型MOSFET及びその製造方法
岩室, 憲幸; 原田信介; 星保幸; 原田祐一 -
15. : Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
Iwamuro,Noriyuki -
16. : Vertical high voltage semiconductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor appatus
岩室,憲幸 -
17. : •Low on-resistance wide band gap semiconductor device and method for producing the same
岩室,憲幸 -
18. : •炭化珪素縦型電界効果トランジスタ
岩室,憲幸 -
19. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
20. : •ワイドバンドギャップ半導体装置
岩室,憲幸 -
21. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
22. : •ワイドバンドギャップ半導体装置
岩室,憲幸 -
23. : •縦型高耐圧半導体装置およびその製造方法
岩室,憲幸 -
24. : •逆耐圧を有する縦型窒化ガリウム半導体装置
岩室,憲幸 -
25. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
26. : •Vertical high voltage semiconductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor apparatus
岩室,憲幸 -
27. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
28. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
29. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
30. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
31. : •Fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
32. : •Silicon carbide vertical field effect transistor
岩室,憲幸 -
33. : •電力変換装置
岩室,憲幸 -
34. : •電力変換装置
岩室,憲幸 -
35. : •縦型高耐圧装置の製造方法および縦型高耐圧半導体装置
岩室,憲幸 -
36. : •炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
37. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
38. : •縦型高耐圧装置および縦型高耐圧半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
39. : •High voltage semiconductor device and manufacturing method thereof
岩室,憲幸 -
40. : •Wide band gap semiconductor device and method for producing the same
岩室,憲幸 -
41. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
42. : •Vertical high-voltage semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
43. : •High voltage semiconductor apparatus
岩室,憲幸 -
44. : •Wide band gap semiconductor device
岩室,憲幸 -
45. : •炭化珪素半導体装置およびその製造方法
岩室,憲幸 -
46. : •炭化珪素半導体素子の製造方法
岩室,憲幸 -
47. : •Semiconductor Device With SiC Base Layer
岩室, 憲幸 -
48. : •Semiconductor Device
岩室,憲幸 -
49. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
50. 特願2018-208105: 炭化珪素半導体装置
岩室, 憲幸; 原田, 信介 -
51. 2012-104224: 炭化珪素半導体素子の製造方法
福田憲司; 岩室, 憲幸; 後藤雅秀 -
52. 2012-125254: 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
辻崇; 木下明将; 岩室, 憲幸; 福田憲司 -
53. 2017-101263: 炭化珪素半導体装置
辻崇; 木下明将; 岩室, 憲幸; 福田憲司 -
54. 2016-131076: 半導体装置および半導体装置の製造方法
福田憲司; 岩室, 憲幸 -
55. 2012-081171: 半導体装置
原田祐一; 岩室, 憲幸; 星保幸; 原田信介 -
56. 2015-530769: 高耐圧半導体装置およびその製造方法
岩室, 憲幸; 原田信介 -
57. 特願2015‐030433: •前駆体溶液及びシリコンを含有する層、ならびにパワー半導体素子及びパワー半導体素子の製造方法
下田達也; 増田貴史; 村上達也; 岩室, 憲幸; 矢野裕司 -
58. 特願2014-257935: 電力変換装置
磯部高範; 岩室憲幸; 只野博; 矢野 裕司 -
59. 特願2014-257934: 電力変換装置
磯部高範; 岩室憲幸; 只野博; 矢野 裕司 -
60. 特願2015-030433: 前駆体溶液及び炭化シリコンを含有する層、並びに、パワー半導体素子及びパワー半導体素子の製造方法
下田達也; 井上,聡; 増田,貴史; 村上,達也; 岩室,憲幸; 矢野,裕司
1,878 total views
この研究者の他の情報源
キーワードが似ている研究者
- 磯谷 順一 diamond, ダイヤモンド
- 梅田 享英 炭化ケイ素
- 浅野 恵一 Mechanical stress
- Traore Aboulaye ALUMNI Diamond
- 只野 博 ALUMNI SiC-MOSFET