ホーム > 岩室 憲幸/ Iwamuro, Noriyuki
岩室 憲幸
Iwamuro, Noriyuki
数理物質系 , 教授 Institute of Pure and Applied Sciences , Professor
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日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞
2020-12-10
岩室 憲幸
オープンアクセス版の論文は「つくばリポジトリ」で読むことができます。
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1.
電気ー熱ー応力連成シミュレーション技術を用いたSiC MOSFET負荷短絡破壊メカニズム解析法
Yao, Kairun; 岩室, 憲幸
IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems 144: 204 (2024) Semantic Scholar
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2.
1.2-kV SiC MOSFET負荷短絡耐量の温度依存性解析
鈴木一広; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 34 (2024)
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3.
SiC-MOSFET 内蔵PiNダイオードの特性解析
菊池真矢; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 32 (2024)
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4.
4H-SiC横型p-ch SJ-MOSFETのゲート-ドレイン間寄生容量特性解析
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 37 (2024)
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5.
ACゲートストレスによるSiC MOSFETのしきい値電圧とサブスレッショルドスイングの変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 105 (2023)
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6.
4H SiC横型p-ch SJ-MOSFETのオン抵抗と寄生容量の関係評価
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 101 (2023)
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7.
SiCトレンチMOSFETへの電子線照射効果
松木康太郎; 辻崇; 小野澤勇一; 岩室憲幸矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 103 (2023)
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8.
Threshold voltage drift mechanism in SiC MOSFETs under AC gate stress
Enjoji, Yuya; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
Abstract of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2023 (ICSCRM 2023) Mo.C.11 (2023)
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9.
Trap distribution in 4H-SiC MOSFETs analyzed by a 3-level charge pumping technique
Akiba, Atsuhiro; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
Abstract of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2023 (ICSCRM 2023) C.1 (2023)
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10.
Investigations of Residual Damage in SiC Trench MOSFETs after Single and Multiple Short-Circuit Stress
髙橋光希; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
Proceedings of the 35st International Symposium on Power Semiconductor Devices & ICs 250 (2023)
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11.
An investigation of avalanche ruggedness and failure mechanisms of 4H SiC trench MOSFETs in unclamped inductive switching by varying load inductances over a wide range
Tsuji, Takashi; Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: (2023) Semantic Scholar
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12.
Comparative study on short-circuit and surge current capabilities of 1.2 kV SiC SBD-embedded MOSFETs
柏佳介; 髙橋光希; 北村雄大; 矢野裕司Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: SC2073-1 (2023) Semantic Scholar
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13.
モノリシック相補型インバータに向けた4H-SiC横型p-ch SJ-MOSFETの構造設計
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第9回講演会 予稿集 91 (2022)
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14.
Study on enhancing of the surge current capabilities of embedded SBDs in SWITCH-MOSs and body-PiN-diodes in SiC trench MOSFETs
北村雄大; 加藤史樹; 田中聡; 俵 武志 (+3 著者) Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62: SC1007-1 (2022) Semantic Scholar
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15.
バイポーラACゲートストレス印加によるSiC-MOSFETのしきい値電圧変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第9回講演会 予稿集 75 (2022)
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16.
Significant Improvement of Switching Characteristics in a 1.2-kV SiC SWITCH-MOS by the Application of Kelvin Source Connection
松井ケビン; 俵 武志; 原田, 信介; 田中聡 (+2 著者) Iwamuro, Noriyuki
IEEJ TRANSACTIONS ON ELECTRICAL AND ELECTRONIC ENGINEERING 18: 278 (2022) Semantic Scholar
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17.
AC ゲートストレス印加による SiC-MOSFET のしきい値電圧変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
第83回応用物理学会秋季学術講演会 予稿集 12-122 (2022)
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18.
Experimental Demonstration of the Surge Current Capability of Embedded SBDs in 1.2-kV SiC SBD-integrated Trench MOSFETs with Ti and Ni as Schottky Metals
北村雄大; 俵 武志; 原田, 信介; 矢野裕司Iwamuro, Noriyuki
Extended Abstracts of 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 701 (2022)
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19.
Experimental and Numerical Investigations of the Electrical Characteristics of SiC SBD-Integrated MOSFETs by Varying the Area Occupied by Embedded SBDs
柏佳介; 髙橋光希; 矢野裕司; Iwamuro, Noriyuki
Extended Abstracts of 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 703 (2022)
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20.
電気熱連成解析によるモータ駆動時の SiC MOSFET の温度推定
松岡亨卓; 磯部, 高範; 加藤史樹; 先崎純寿 (+1 著者) 岩室憲幸
2022年電気学会産業応用部門大会 (2022)
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1.
パワエレ技術者のためのSiCパワー半導体デバイス ~高信頼性を実現する素子と実装技術~
岩室, 憲幸
科学情報出版 2024年2月 (ISBN: 9784910558264)
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2.
Asia Electronics Industry
Iwamuro, Noriyuki
電波新聞社 2023年9月
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3.
工業材料
岩室, 憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:MOSFETとIGBTを中心としたパワー半導体デバイスの最新動向と課題)
日刊工業新聞社 2023年8月
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4.
月刊車載テクノロジー
岩室, 憲幸
技術情報協会 2023年6月
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5.
表面技術
岩室, 憲幸
一般社団法人 表面技術協会 2023年6月
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6.
Springer Handbook of Semiconductor Devices
Iwamuro, Noriyuki
Springer Nature 2022年11月 (ISBN: 9783030798260)
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7.
次世代パワー半導体の開発・評価と実用化
岩室, 憲幸
㈱エヌ・ティー・エス 2022年2月 (ISBN: 9784860437671)
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8.
ASIA Electronics Industry
Iwamuro, Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:Power ICs Shape Up to Meet Emerging Automobile Trends)
電波新聞社 2021年12月
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9.
次世代パワー半導体の開発動向と応用展開
岩室, 憲幸
㈱シーエムシー出版 2021年8月 (ISBN: 9784781316130)
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10.
電気評論
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:パワーエレクトロニクスの現状と将来)
2020年12月
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11.
AEI 亜州電子信息
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:在 5G 商用化和 EV 普及上关注度不断 增加的功率半导体)
2020年8月
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12.
電気学会技術報告書
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiC デバイス ユニポーラデバイス)
電気学会 2020年7月
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13.
電気計算
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:注目される次世代パワーデバイスSiC・GaN)
株式会社 電気書院 2020年4月
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14.
Power Device Enabling Association report
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:GaNパワーデバイスの基礎)
一般社団法人 パワーデバイスイネーブリング協会 2020年2月
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15.
月間マテリアルステージ
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiC/GaNパワーデバイスの技術トレンドと求められる放熱・耐熱特性)
株式会社 技術情報協会 2020年1月
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16.
車載機器におけるパワー半導体の設計と実装
岩室, 憲幸
科学情報出版株式会社 2019年9月 (ISBN: 9784904774786)
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17.
高熱伝導材料の開発~さらなる熱伝導率の向上のために~
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiCパワーデバイスの最新動向と信頼性の課題)
(株)技術情報協会 2019年7月 (ISBN: 9784861047541)
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18.
サーマルマネジメント材料技術
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:次世代パワー半導体デバイスとサーマルマネジメント材料技術)
サイエンス&テクノロジー株式会社 2019年7月 (ISBN: 9784864281966)
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19.
IV. パワー半導体デバイスの現状
岩室,憲幸
日本粉体工業技術協会 2019年6月
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20.
サーマルデバイス ~新素材・新技術による熱の高度制御と高効率利用~
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:サーマルマネジメント―パワー半導体デバイス技術と課題)
(株)エヌ・ティー・エス 2019年4月 (ISBN: 9784860436025)
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101.
窒化したSiC MOSFETに対するチャージポンピング特性のデューティ比依存性
王緒昆; 岡本大; 岩室憲幸; 矢野裕司
第64回応用物理学会春季学術講演会 2017年3月14日
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102.
Verification of Modified Distributed Circuit Model for Near-Interface Traps in 4H-SiC MOS Interface
Zhang, Xufang; 岡本大; Hatakeyama, Tetsuo; Sometani, Mitsuru; Harada, Shinsuke; Kosugi, Ryoji; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理- 第22回研究会 2017年1月20日
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103.
パワー半導体デバイス~日本に残すべき体系的パワエレ技術~
岩室憲幸
電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理- 第22回研究会 2017年1月20日
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104.
A Distributed Model for Near-Interface Traps in 4H-SiC MOS Capacitors
Zhang, X. F; Okamoto, D; Hatakeyama, T; Sometani, M; Harada, S; Kosugi, R; Iwamuro, N; Yano, Hiroshi
47th IEEE Semiconductor interface Specialist Conference (SISC2016) 2016年12月7日
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105.
Experimental Demonstration of -730V Vertical SiC p-MOSFET with High Short Circuit Withstand Capability for Complementary Inverter Applications
An, J; Namai, M; Tanabe, M; Okamoto, D; Yano, Hiroshi; Iwamuro, N
International Electron Device Meeting 2016 (IEDM2016) 2016年12月3日
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106.
デッドタイムによる問題を解消する相補型インバータの研究”,電子デバイス/半導体電力変換合同研究会
奥田, 一真; 磯部, 高範; 只野, 博; 岩室, 憲幸
電気学会 電子デバイス/半導体電力変換合同研究会 2016年11月14日 電気学会
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107.
チャージポンピング法による4H-SiC MOSFET の界面近傍酸化膜欠陥の解析
王緒昆; 岡本大; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野裕司
先進パワー半導体分科会 第3回講演会 2016年11月8日
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108.
Quantitative estimation of near-interface traps with distributed circuit model for 4H-SiC MOS capacitors
Zhang, Xufang; 岡本大; Hatakeyama, Tetsuo; Sometani, Mitsuru; Harada, Shinsuke; Kosugi, Ryoji; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
先進パワー半導体分科会 第3回講演会 2016年11月8日
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109.
窒化したp 型SiC MOS キャパシタにおける反転層の形成
唐本祐樹; 岡本大; 原田信介; 染谷満; 畠山哲夫; 小杉亮治; 岩室憲幸; 矢野裕司
先進パワー半導体分科会 第3回講演会 2016年11月8日
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110.
直列抵抗を考慮したインピーダンス測定によるSiC MOS界面解析
岡本大; 張旭芳; 畠山哲夫; 染谷満; 原田信介; 小杉亮治; 岩室憲幸; 矢野裕司
第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月13日
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111.
A Distributed Model for Near-Interface Traps in 4H-SiC MOS Capacitors
Zhang, X. F; Okamoto, D; Hatakeyama, T; Sometani, M; Harada, S; Kosugi, R; Iwamuro, N; Yano, Hiroshi
第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月13日
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112.
窒化したSiC MOSFETに対するチャージポンピング特性の周波数依存性
王緒昆; 岡本大; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野裕司
第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月13日
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113.
窒化したp 型SiC MOS キャパシタにおける反転層の形成
唐本祐樹; 岡本大; 原田信介; 染谷満; 畠山哲夫; 小杉亮治; 岩室憲幸; 矢野裕司
第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月13日
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114.
A dead-time minimized inverter by using complementary topology and its experimental evaluation of harmonics reduction
Okuda, Kazuma; Isobe, Takanori; Tadano, Hiroshi; Iwamuro, Noriyuki
18th European Conference on Power Electronics and Applications (EPE) 2016年9月5日
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115.
Evaluation of Maximum Junction Temperature for 4H-SiC MOSFET during Unclamped Inductive Switching Test
Junjie,An; Masaki,Namai; Dai,Okamoto; Hiroshi,Yano; Hiroshi,Tadano; Noriyuki,Iwamuro
The International Conference on Electrical Engineering 2016 2016年7月3日
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116.
SiC-MOSFETのUIS耐量評価
生井 正輝; 安 俊傑; 岡本 大; 矢野 裕司; 只野,博; 岩室 憲幸
平成28年電気学会全国大会 2016年3月16日
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117.
SiC-MOSFETによる無アーク低ノイズ開閉器
只野,博; 嶋田 隆一; 磯部 高範; 岩室 憲幸
2016年電気学会全国大会 2016年3月16日
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118.
Electrothermal evaluation of SiC MOSFETs during unclamped inductive switching
岩室,憲幸
平成28年電気学会全国大会 2016年3月16日 電気学会
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119.
Electrothermal Evaluation of SiC MOSFETs during Unclamped Inductive Switching
安俊傑; 生井正輝; 岡本大; 矢野裕司; 只野博; 岩室憲幸
平成28年電気学会全国大会 2016年3月16日
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120.
デッドタイムを最小化する相補型インバータ及びそのゲート駆動回路の検討
奥田,一真; 磯部,高範; 只野,博; 岩室,憲幸
平成27年電気学会産業応用部門大会 2015年9月2日
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1. : 炭化珪素半導体装置及び炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
2. : 炭化珪素半導体装置
岩室,憲幸 -
3. : 炭化珪素半導体装置
辻 崇; 木下 明将; 岩室, 憲幸; 福田 憲司 -
4. : 炭化ケイ素縦型MOSFETおよびその製造方法
岩室,憲幸 -
5. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
6. : 炭化珪素半導体装置
岩室,憲幸 -
7. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
8. : Silicon carbide devices and fabrication method
Iwamuro,Noriyuki -
9. : 半導体装置および半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
10. : Vertical high voltage semicouductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor apparatus
Iwamuro, Noriyuki; 原田 信介; 星 保幸; 原田 祐一 -
11. : High Voltage Semiconductor Devices
Iwamuro, Noriyuki; 信介, 原田 -
12. : Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
Iwamuro,Noriyuki -
13. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
14. : 炭化ケイ素縦型MOSFET及びその製造方法
岩室, 憲幸; 原田信介; 星保幸; 原田祐一 -
15. : Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
Iwamuro,Noriyuki -
16. : Vertical high voltage semiconductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor appatus
岩室,憲幸 -
17. : •Low on-resistance wide band gap semiconductor device and method for producing the same
岩室,憲幸 -
18. : •炭化珪素縦型電界効果トランジスタ
岩室,憲幸 -
19. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
20. : •ワイドバンドギャップ半導体装置
岩室,憲幸 -
21. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
22. : •ワイドバンドギャップ半導体装置
岩室,憲幸 -
23. : •縦型高耐圧半導体装置およびその製造方法
岩室,憲幸 -
24. : •逆耐圧を有する縦型窒化ガリウム半導体装置
岩室,憲幸 -
25. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
26. : •Vertical high voltage semiconductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor apparatus
岩室,憲幸 -
27. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
28. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
29. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
30. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
31. : •Fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
32. : •Silicon carbide vertical field effect transistor
岩室,憲幸 -
33. : •電力変換装置
岩室,憲幸 -
34. : •電力変換装置
岩室,憲幸 -
35. : •縦型高耐圧装置の製造方法および縦型高耐圧半導体装置
岩室,憲幸 -
36. : •炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
37. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
38. : •縦型高耐圧装置および縦型高耐圧半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
39. : •High voltage semiconductor device and manufacturing method thereof
岩室,憲幸 -
40. : •Wide band gap semiconductor device and method for producing the same
岩室,憲幸 -
41. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
42. : •Vertical high-voltage semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
43. : •High voltage semiconductor apparatus
岩室,憲幸 -
44. : •Wide band gap semiconductor device
岩室,憲幸 -
45. : •炭化珪素半導体装置およびその製造方法
岩室,憲幸 -
46. : •炭化珪素半導体素子の製造方法
岩室,憲幸 -
47. : •Semiconductor Device With SiC Base Layer
岩室, 憲幸 -
48. : •Semiconductor Device
岩室,憲幸 -
49. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
50. 特願2018-208105: 炭化珪素半導体装置
岩室, 憲幸; 原田, 信介 -
51. 2012-104224: 炭化珪素半導体素子の製造方法
福田憲司; 岩室, 憲幸; 後藤雅秀 -
52. 2012-125254: 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
辻崇; 木下明将; 岩室, 憲幸; 福田憲司 -
53. 2017-101263: 炭化珪素半導体装置
辻崇; 木下明将; 岩室, 憲幸; 福田憲司 -
54. 2016-131076: 半導体装置および半導体装置の製造方法
福田憲司; 岩室, 憲幸 -
55. 2012-081171: 半導体装置
原田祐一; 岩室, 憲幸; 星保幸; 原田信介 -
56. 2015-530769: 高耐圧半導体装置およびその製造方法
岩室, 憲幸; 原田信介 -
57. 特願2015‐030433: •前駆体溶液及びシリコンを含有する層、ならびにパワー半導体素子及びパワー半導体素子の製造方法
下田達也; 増田貴史; 村上達也; 岩室, 憲幸; 矢野裕司 -
58. 特願2014-257935: 電力変換装置
磯部高範; 岩室憲幸; 只野博; 矢野 裕司 -
59. 特願2014-257934: 電力変換装置
磯部高範; 岩室憲幸; 只野博; 矢野 裕司 -
60. 特願2015-030433: 前駆体溶液及び炭化シリコンを含有する層、並びに、パワー半導体素子及びパワー半導体素子の製造方法
下田達也; 井上,聡; 増田,貴史; 村上,達也; 岩室,憲幸; 矢野,裕司
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