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岩室 憲幸
Iwamuro, Noriyuki
数理物質系 , 教授 Institute of Pure and Applied Sciences , Professor
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日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞
2020-12-10
岩室 憲幸
オープンアクセス版の論文は「つくばリポジトリ」で読むことができます。
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1.
SiC MOSFETにおけるAC-BTIの窒化時間依存性
子安, 葵; 新郷, 諒介; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
第72回応用物理学会春季学術講演会 予稿集 11-146 (2025)
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2.
SiC MOSFETにおけるAC-BTIの窒化時間依存性
子安, 葵; 新郷, 諒介; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
第72回応用物理学会春季学術講演会 11-146 (2025)
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3.
低直流電圧印加 時 における SiC MOSFET 負荷短絡破壊メカニズムの解析
鹿志村快音; 鈴木一広; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
2025年第72回応用物理学会春季学術講演会 予稿集 11-147 (2025)
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4.
SiC SBD高温・高湿バイアス試験後の 周辺耐圧領域解析
阿部洸太; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和7年電気学会全国大会 講演論文集 4: 143 (2025)
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5.
A study on turn-off, and on-resistance and short-circuit capability trade-off characteristics in 1.2 kV SiC MOSFETs
Suzuki, Kazuhiro; Yano, Hiroshi; Iwamuro, Noriyuki
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 63: (2024)
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6.
Unique short-circuit failure mechanisms in 1.2-kV SiC planar MOSFETs
鈴木一広; 鹿志村快音; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
Applied Physics Express 17: 124002-1 (2024)
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7.
4H-SiC 横型 p-ch SJ-MOSFETの高温状態における性能改善
吉田, 開; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第11回講演会 予稿集 89 (2024)
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8.
SiC MOSFETへのゲートACストレス印加時の発光としきい値電圧変動の関係
新郷, 諒介; 円城寺, 佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第11回講演会 予稿集 81 (2024)
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9.
電子線照射がSiCパワーMOSFETのチャネル特性に与える影響
松木, 康太郎; 市川, 義人; 小野澤, 勇一; 岩室憲幸矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第11回講演会 予稿集 93 (2024)
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10.
Relationship between luminescence and threshold voltage shift in SiC MOSFETs under gate AC stress
Shingo, Ryosuke; Enjoji, Yuya; Iwamuro, Noriyuki; YANO, Hiroshi
Proceedings of The 11th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductor (APWS 2024) MC2-3 (2024)
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11.
電子線照射がSiCおよびSi MOSFETのチャネル特性に及ぼす影響
松木, 康太郎; 市川, 義人; 小野澤, 勇一; 岩室憲幸矢野, 裕司
第85回応用物理学会秋季学術講演会 予稿集 12-256 (2024)
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12.
SiC MOSFETへのゲートACストレス印加による発光としきい値電圧変動
新郷, 諒介; 円城寺, 佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
第85回応用物理学会秋季学術講演会 予稿集 12-266 (2024)
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13.
Impact of electron irradiation on SiC power MOSFET performance
Matsuki, Kotaro; Ichikawa, Yoshihito; Onozawa, Yuichi; Iwamuro, NoriyukiYANO, Hiroshi
Abstracts of International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2024 (ICSCRM 2024) 563 (2024)
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14.
A Study of Electrical Characteristics of State-of-the-Art 1.2-kV SiC Planar and Trench MOSFETs
鈴木一広; 矢野裕司; IWAMURO, Noriyuki
Abstracts of 2024 International Conference on Solid State Devices and Materials 221 (2024)
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15.
電気ー熱ー応力連成シミュレーション技術を用いたSiC MOSFET負荷短絡破壊メカニズム解析法
Yao, Kairun; 岩室, 憲幸
IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems 144: 204 (2024) Semantic Scholar
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16.
4H-SiC横型p-ch SJ-MOSFETのゲート-ドレイン間寄生容量特性解析
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 37 (2024)
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17.
1.2-kV SiC MOSFET負荷短絡耐量の温度依存性解析
鈴木一広; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 34 (2024)
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18.
SiC-MOSFET 内蔵PiNダイオードの特性解析
菊池真矢; 矢野裕司; 岩室, 憲幸
令和6年電気学会全国大会 講演論文集 4: 32 (2024)
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19.
ACゲートストレスによるSiC MOSFETのしきい値電圧とサブスレッショルドスイングの変動評価
円城寺佑哉; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 105 (2023)
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20.
4H SiC横型p-ch SJ-MOSFETのオン抵抗と寄生容量の関係評価
森海斗; 岩室憲幸; 矢野, 裕司
先進パワー半導体分科会 第10回講演会 予稿集 101 (2023)
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1.
パワーデバイスの最新開発動向と高温対策および利用技術 (監修)
岩室, 憲幸
㈱R&D支援センター 2024年11月 (ISBN: 9784905507741)
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2.
パワーデバイスの最新開発動向と高温対策および利用技術
岩室, 憲幸
2024年11月 (ISBN: 9784905507741)
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3.
パワーエレクトロニクス技術の進展 ~脱炭素社会への貢献と期待~ (監修)
岩室, 憲幸
シーエムシー出版 2024年9月 (ISBN: 9784781318165)
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4.
パワーエレクトロニクス技術の進展 ~脱炭素社会への貢献と期待~
岩室, 憲幸
シーエムシー出版 2024年9月 (ISBN: 9784781318165)
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5.
次世代パワーデバイスに向けた高耐熱・高放熱材料の開発と熱対策
岩室, 憲幸
2024年8月 (ISBN: 9784867980309)
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6.
パワエレ技術者のためのSiCパワー半導体デバイス ~高信頼性を実現する素子と実装技術~
岩室, 憲幸
科学情報出版 2024年2月 (ISBN: 9784910558264)
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7.
Asia Electronics Industry
Iwamuro, Noriyuki
電波新聞社 2023年9月
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8.
工業材料
岩室, 憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:MOSFETとIGBTを中心としたパワー半導体デバイスの最新動向と課題)
日刊工業新聞社 2023年8月
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9.
月刊車載テクノロジー
岩室, 憲幸
技術情報協会 2023年6月
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10.
表面技術
岩室, 憲幸
一般社団法人 表面技術協会 2023年6月
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11.
Springer Handbook of Semiconductor Devices
Iwamuro, Noriyuki
Springer Nature 2022年11月 (ISBN: 9783030798260)
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12.
次世代パワー半導体の開発・評価と実用化
岩室, 憲幸
㈱エヌ・ティー・エス 2022年2月 (ISBN: 9784860437671)
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13.
ASIA Electronics Industry
Iwamuro, Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:Power ICs Shape Up to Meet Emerging Automobile Trends)
電波新聞社 2021年12月
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14.
次世代パワー半導体の開発動向と応用展開
岩室, 憲幸
㈱シーエムシー出版 2021年8月 (ISBN: 9784781316130)
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15.
電気評論
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:パワーエレクトロニクスの現状と将来)
2020年12月
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16.
AEI 亜州電子信息
Iwamuro,Noriyuki
(担当:分担執筆, 範囲:在 5G 商用化和 EV 普及上关注度不断 增加的功率半导体)
2020年8月
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17.
電気学会技術報告書
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiC デバイス ユニポーラデバイス)
電気学会 2020年7月
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18.
電気計算
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:注目される次世代パワーデバイスSiC・GaN)
株式会社 電気書院 2020年4月
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19.
Power Device Enabling Association report
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:GaNパワーデバイスの基礎)
一般社団法人 パワーデバイスイネーブリング協会 2020年2月
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20.
月間マテリアルステージ
岩室,憲幸
(担当:分担執筆, 範囲:SiC/GaNパワーデバイスの技術トレンドと求められる放熱・耐熱特性)
株式会社 技術情報協会 2020年1月
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101.
窒化したSiC MOSFETに対するチャージポンピング特性のデューティ比依存性
王緒昆; 岡本大; 岩室憲幸; 矢野裕司
第64回応用物理学会春季学術講演会 2017年3月14日
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102.
Verification of Modified Distributed Circuit Model for Near-Interface Traps in 4H-SiC MOS Interface
Zhang, Xufang; 岡本大; Hatakeyama, Tetsuo; Sometani, Mitsuru; Harada, Shinsuke; Kosugi, Ryoji; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理- 第22回研究会 2017年1月20日
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103.
パワー半導体デバイス~日本に残すべき体系的パワエレ技術~
岩室憲幸
電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理- 第22回研究会 2017年1月20日
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104.
A Distributed Model for Near-Interface Traps in 4H-SiC MOS Capacitors
Zhang, X. F; Okamoto, D; Hatakeyama, T; Sometani, M; Harada, S; Kosugi, R; Iwamuro, N; Yano, Hiroshi
47th IEEE Semiconductor interface Specialist Conference (SISC2016) 2016年12月7日
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105.
Experimental Demonstration of -730V Vertical SiC p-MOSFET with High Short Circuit Withstand Capability for Complementary Inverter Applications
An, J; Namai, M; Tanabe, M; Okamoto, D; Yano, Hiroshi; Iwamuro, N
International Electron Device Meeting 2016 (IEDM2016) 2016年12月3日
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106.
デッドタイムによる問題を解消する相補型インバータの研究”,電子デバイス/半導体電力変換合同研究会
奥田, 一真; 磯部, 高範; 只野, 博; 岩室, 憲幸
電気学会 電子デバイス/半導体電力変換合同研究会 2016年11月14日 電気学会
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107.
チャージポンピング法による4H-SiC MOSFET の界面近傍酸化膜欠陥の解析
王緒昆; 岡本大; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野裕司
先進パワー半導体分科会 第3回講演会 2016年11月8日
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108.
Quantitative estimation of near-interface traps with distributed circuit model for 4H-SiC MOS capacitors
Zhang, Xufang; 岡本大; Hatakeyama, Tetsuo; Sometani, Mitsuru; Harada, Shinsuke; Kosugi, Ryoji; 岩室憲幸; Yano, Hiroshi
先進パワー半導体分科会 第3回講演会 2016年11月8日
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109.
窒化したp 型SiC MOS キャパシタにおける反転層の形成
唐本祐樹; 岡本大; 原田信介; 染谷満; 畠山哲夫; 小杉亮治; 岩室憲幸; 矢野裕司
先進パワー半導体分科会 第3回講演会 2016年11月8日
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110.
直列抵抗を考慮したインピーダンス測定によるSiC MOS界面解析
岡本大; 張旭芳; 畠山哲夫; 染谷満; 原田信介; 小杉亮治; 岩室憲幸; 矢野裕司
第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月13日
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111.
A Distributed Model for Near-Interface Traps in 4H-SiC MOS Capacitors
Zhang, X. F; Okamoto, D; Hatakeyama, T; Sometani, M; Harada, S; Kosugi, R; Iwamuro, N; Yano, Hiroshi
第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月13日
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112.
窒化したSiC MOSFETに対するチャージポンピング特性の周波数依存性
王緒昆; 岡本大; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野裕司
第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月13日
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113.
窒化したp 型SiC MOS キャパシタにおける反転層の形成
唐本祐樹; 岡本大; 原田信介; 染谷満; 畠山哲夫; 小杉亮治; 岩室憲幸; 矢野裕司
第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月13日
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114.
A dead-time minimized inverter by using complementary topology and its experimental evaluation of harmonics reduction
Okuda, Kazuma; Isobe, Takanori; Tadano, Hiroshi; Iwamuro, Noriyuki
18th European Conference on Power Electronics and Applications (EPE) 2016年9月5日
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115.
Evaluation of Maximum Junction Temperature for 4H-SiC MOSFET during Unclamped Inductive Switching Test
Junjie,An; Masaki,Namai; Dai,Okamoto; Hiroshi,Yano; Hiroshi,Tadano; Noriyuki,Iwamuro
The International Conference on Electrical Engineering 2016 2016年7月3日
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116.
SiC-MOSFETのUIS耐量評価
生井 正輝; 安 俊傑; 岡本 大; 矢野 裕司; 只野,博; 岩室 憲幸
平成28年電気学会全国大会 2016年3月16日
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117.
SiC-MOSFETによる無アーク低ノイズ開閉器
只野,博; 嶋田 隆一; 磯部 高範; 岩室 憲幸
2016年電気学会全国大会 2016年3月16日
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118.
Electrothermal evaluation of SiC MOSFETs during unclamped inductive switching
岩室,憲幸
平成28年電気学会全国大会 2016年3月16日 電気学会
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119.
Electrothermal Evaluation of SiC MOSFETs during Unclamped Inductive Switching
安俊傑; 生井正輝; 岡本大; 矢野裕司; 只野博; 岩室憲幸
平成28年電気学会全国大会 2016年3月16日
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120.
デッドタイムを最小化する相補型インバータ及びそのゲート駆動回路の検討
奥田,一真; 磯部,高範; 只野,博; 岩室,憲幸
平成27年電気学会産業応用部門大会 2015年9月2日
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1. : 炭化珪素半導体装置及び炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
2. : 炭化珪素半導体装置
岩室,憲幸 -
3. : 炭化珪素半導体装置
辻 崇; 木下 明将; 岩室, 憲幸; 福田 憲司 -
4. : 炭化ケイ素縦型MOSFETおよびその製造方法
岩室,憲幸 -
5. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
6. : 炭化珪素半導体装置
岩室,憲幸 -
7. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
8. : Silicon carbide devices and fabrication method
Iwamuro,Noriyuki -
9. : 半導体装置および半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
10. : Vertical high voltage semicouductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor apparatus
Iwamuro, Noriyuki; 原田 信介; 星 保幸; 原田 祐一 -
11. : High Voltage Semiconductor Devices
Iwamuro, Noriyuki; 信介, 原田 -
12. : Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
Iwamuro,Noriyuki -
13. : 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
14. : 炭化ケイ素縦型MOSFET及びその製造方法
岩室, 憲幸; 原田信介; 星保幸; 原田祐一 -
15. : Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
Iwamuro,Noriyuki -
16. : Vertical high voltage semiconductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor appatus
岩室,憲幸 -
17. : •Low on-resistance wide band gap semiconductor device and method for producing the same
岩室,憲幸 -
18. : •炭化珪素縦型電界効果トランジスタ
岩室,憲幸 -
19. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
20. : •ワイドバンドギャップ半導体装置
岩室,憲幸 -
21. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
22. : •ワイドバンドギャップ半導体装置
岩室,憲幸 -
23. : •縦型高耐圧半導体装置およびその製造方法
岩室,憲幸 -
24. : •逆耐圧を有する縦型窒化ガリウム半導体装置
岩室,憲幸 -
25. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
26. : •Vertical high voltage semiconductor apparatus and fabrication method of vertical high voltage semiconductor apparatus
岩室,憲幸 -
27. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
28. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
29. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
30. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
31. : •Fabrication method of silicon carbide semiconductor device
岩室,憲幸 -
32. : •Silicon carbide vertical field effect transistor
岩室,憲幸 -
33. : •電力変換装置
岩室,憲幸 -
34. : •電力変換装置
岩室,憲幸 -
35. : •縦型高耐圧装置の製造方法および縦型高耐圧半導体装置
岩室,憲幸 -
36. : •炭化珪素半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
37. : •半導体装置
岩室,憲幸 -
38. : •縦型高耐圧装置および縦型高耐圧半導体装置の製造方法
岩室,憲幸 -
39. : •High voltage semiconductor device and manufacturing method thereof
岩室,憲幸 -
40. : •Wide band gap semiconductor device and method for producing the same
岩室,憲幸 -
41. : •Semiconductor device
岩室,憲幸 -
42. : •Vertical high-voltage semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
43. : •High voltage semiconductor apparatus
岩室,憲幸 -
44. : •Wide band gap semiconductor device
岩室,憲幸 -
45. : •炭化珪素半導体装置およびその製造方法
岩室,憲幸 -
46. : •炭化珪素半導体素子の製造方法
岩室,憲幸 -
47. : •Semiconductor Device With SiC Base Layer
岩室, 憲幸 -
48. : •Semiconductor Device
岩室,憲幸 -
49. : •Silicon carbide semiconductor device and fabrication method thereof
岩室,憲幸 -
50. 特願2018-208105: 炭化珪素半導体装置
岩室, 憲幸; 原田, 信介 -
51. 2012-104224: 炭化珪素半導体素子の製造方法
福田憲司; 岩室, 憲幸; 後藤雅秀 -
52. 2012-125254: 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法
辻崇; 木下明将; 岩室, 憲幸; 福田憲司 -
53. 2017-101263: 炭化珪素半導体装置
辻崇; 木下明将; 岩室, 憲幸; 福田憲司 -
54. 2016-131076: 半導体装置および半導体装置の製造方法
福田憲司; 岩室, 憲幸 -
55. 2012-081171: 半導体装置
原田祐一; 岩室, 憲幸; 星保幸; 原田信介 -
56. 2015-530769: 高耐圧半導体装置およびその製造方法
岩室, 憲幸; 原田信介 -
57. 特願2015‐030433: •前駆体溶液及びシリコンを含有する層、ならびにパワー半導体素子及びパワー半導体素子の製造方法
下田達也; 増田貴史; 村上達也; 岩室, 憲幸; 矢野裕司 -
58. 特願2014-257935: 電力変換装置
磯部高範; 岩室憲幸; 只野博; 矢野 裕司 -
59. 特願2014-257934: 電力変換装置
磯部高範; 岩室憲幸; 只野博; 矢野 裕司 -
60. 特願2015-030433: 前駆体溶液及び炭化シリコンを含有する層、並びに、パワー半導体素子及びパワー半導体素子の製造方法
下田達也; 井上,聡; 増田,貴史; 村上,達也; 岩室,憲幸; 矢野,裕司
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